这个时候，分别测量第一标准片和第二标准片某个重复区域嵌套的图形之间的相对偏移误差，将第一误差和第二误差的差值作为掩膜版对准图形的补正参数，以此，我们就能减小这个误差，提升整体的制造工艺。”
开始的时候，这些人还有些嗤之以鼻，但康硕越说他们越是心惊。
发现这个问题之后，他们不是没有尝试过去解决，也想了好些办法，设计了好些方案。
但每一个方案都没撑到实施阶段，论证的时候就完全都被否了，理论都不通，实践怎么可能会有效果呢？指望着瞎猫碰上死耗子吗？根本不可能！
而这个时候，一群人在脑子里把康硕的方案从头至尾，一个环节一个环节的全部过了一遍，竟然发现理论上真的行得通！
不仅如此，这种方案还具有通用性，而且还很便捷，成本也不高，至于准确性，光从理论肯定判断不出来，肯定要上实践。
不管实施的结果怎么样，康硕就已经走到他们前边了啊！
一群人，尤其是几个技术核心看向康硕的眼神立刻不一样了：他怎么对光刻的流程这么熟悉？现在的大学生都这么牛了吗？
……
“你们准备设备，我来更新调试对准误差补偿量参数，我们现在就尝试一下！”
其实不用尝试，康硕对这种方法有着极度的自信，因为这本就是被证明过的实施方案。
当然，只是在130nm~48nm这个区间有效，再往上，那就是另一个层次的事情了，影响因素会更多。
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